IC封裝高速訊號的關鍵:PTH Via過孔
Take-away: 使用TDR觀測阻抗時,需依照頻寬需求調整TDR risetime。 長PTH在高頻上為高阻抗。 降低PTH阻抗 方法有拉近P/N PTH、放置GND PTH在差分訊號周圍。 高速訊號上,PTH/BGA是一大關鍵,務必降低阻抗不連續。 -----Start 在IC封裝設計,CORE層相比PP層厚上許多,常見CORE層厚度為500/800/1200um,PP層厚度為20-35um。用於CORE層的過孔VIA為機鑽孔,又稱為PTH,而用於PP層為雷射孔。 (如下圖) PTH在整體PKG設計中,影響電性效果很多,原因如下。 PTH為非均勻傳輸線(non-uniform transmission line),沒有一個固定的阻抗值。 PTH長度不短(500um-1200um)。 PTH和走線架構差異大,交界處會有不連續效應。 封裝上的高速訊號走線,我們常用core以上的層當主走線層,待走線fanout至BGA正上方時,再下PTH。除了layout設計上比較容易,也較能避免PTH間的coupling問題。 (如下圖) 筆者之前文章已探討過BGA的阻抗特性: 別讓GND鋪銅毀了你的訊號 那麼PTH阻抗特性為何呢? 這裡用TDR模擬來一探究竟。 舉800um的PTH為例,下圖為一對差分訊號TDR結果分布,觀測點為BGA。 阻抗結果顯示211ps低阻抗95ohm,225ps高阻抗105ohm。 此結果「似乎」不差,在100ohm的正負5%內。 (如下圖) 這時候有經驗的工程師一定會問 「目標訊號多快? 此模擬TDR rise time多少?」 沒錯,若我們目標是56Gbps NRZ,那麼50ps rise time的TDR是完全不夠的,速度太慢看不到高頻的反應。(50ps的TDR適用於約16Gbps NRZ) 所以我們將TDR rise time調整為更快的15ps,觀測點為BGA。 阻抗結果顯示207ps低阻抗87ohm,225ps高阻抗112ohm。 此時阻抗偏離100ohm已經超過10%。 TDR結果中, 207ps低阻抗87ohm為BGA結構對PKG GND Plane / GND Ball / PCB GND plane夾出的大電容。 225ps高阻抗112ohm為PTH結構中段的電感效應,此時PTH中段離上層GND ...